台積公司取得艾司摩爾超紫外光微影設備以研發新世代製程

彰顯出台積公司對歐洲半導體業的持續投資

台積公司與荷蘭艾司摩爾(ASML)公司今(22)日共同宣佈,台積公司將取得ASML公司TWINSCAN™ NXE:3100 - 超紫外光(Extreme Ultra-violet,EUV)微影設備,是全球六個取得這項設備的客戶夥伴之一。

這項設備將安裝於台積公司的超大晶圓廠(GigaFab™)-台積十二廠,用以發展新世代的製程技術。台積公司也將成為全球第一個可以在自身晶圓廠發展超紫外光微影技術的專業積體電路製造服務業者。

相較於現行浸潤式微影技術以193奈米波長當作光源,超紫外光微影技術導入更短波長的光源,將有機會降低生產成本,而成為積體電路製造更先進技術世代一個有潛力的選擇。台積公司目前正在對超紫外光及其他微影技術的最佳成本效益的潛力進行評估。

台積公司研究發展資深副總經理蔣尚義博士表示:「台積公司將會利用ASML公司的TWINSCAN™ NXE:3100設備,進行更先進世代製程技術的研發。超紫外光微影技術是我們正在研究的下世代微影技術之一,而導入此項設備,不但切合我們保持先進技術領先的目標,更強化了我們不斷投資於歐洲半導體業創新的一貫承諾。經由ASML和其他公司,歐洲半導體業將在台積公司未來製程技術的發展上,繼續扮演重要的角色。」

ASML公司執行副總裁暨產品及技術長Martin van den Brink表示:「包括此次提供NXE:3100設備給台積公司,ASML已經為邏輯、動態隨機存取記憶體、NAND快閃記憶體及專業積體電路製造服務等晶片製造主的要領域提供超紫外光設備。而藉由為台積公司提供未來晶片製造最佳的技術,將可促進我們與台積公司長久的夥伴關係。」