台積公司舉辦「2006年供應鏈管理論壇」並表揚優良供應商

台灣積體電路製造股份有限公司今(14)日假新竹舉辦「2006年供應鏈管理論壇」(Supply Chain Management Forum)，該論壇邀請台積公司全球主要供應商共同參與，以分享台積公司供應鏈合作模式及成果，會中並頒發「最佳設備獎」及「最佳原物料獎」給優良供應商，以感謝過去一年對台積公司的支持與傑出貢獻。

今年論壇的主題為「承諾攜手邁向成功未來」(Commitment to Future Success)，台積公司總經理暨總執行長蔡力行博士致詞時表示，長期以來供應商對台積公司的鼎力支持及雙方所建立的緊密夥伴關係，是我們能夠持續在半導體產業中保持領先地位不可或缺的重要因素之一。台積公司一直致力於先進製程的開發，同時也提供多樣化製程，這些都需要設備及材料的支援，我們期望與供應商在雙方互惠原則之下，朝向共同目標持續努力，也期許透過彼此雙向暨密切的溝通，進一步提昇技術合作關係，以共享供應鏈整合所帶來的競爭優勢。蔡力行博士同時表示，未來，我們將持續深化在專業積體電路製造服務領域的領先地位，並在供應商開發出更具成本效益與效率的設備、零配件及材料的時候做出貢獻，以持續增加雙方在專業領域上的競爭力，共同攜手邁向成功未來。

此次活動共計有超過 350位來自全球半導體業界之設備、原物料、封裝、測試、廠務、資訊系統與服務、進出口服務、環保及廢棄物處理等供應商共同參與，十一家廠商獲獎，其中七家獲頒「最佳設備獎」、四家獲頒「最佳原物料獎」，得獎名單如下：

「最佳設備獎」:

最佳閘極氧化設備獎(Gate Oxidation):美商應用材料(Applied Materials,Inc.)

最佳酸槽洗淨設備獎(Wet Clean):迪恩仕科技(Dainippon Screen MFG. Co., Ltd.)

最佳電子束檢驗設備獎(E-Beam Inspection):漢民微測(Hermes Microvision Inc.)

最佳爐管設備獎(Furnace):日立國際電氣(Hitachi Kokusai Electric Inc.)

最佳缺陷檢驗設備獎(Defect Inspection):美商科磊(KLA-Tencor Corporation)

最佳化學氣相沉積設備獎(CVD):美國諾發系統(Novellus Systems Inc.)

最佳蝕刻設備獎(Etch):東京威力科創(Tokyo Electron Ltd.)

「最佳原物料獎」:

最佳氣體獎(Gases):三福氣體(Air Products San Fu Co., Ltd.)

最佳化學品獎(Chemicals):巴斯夫電子材料(BASF Electronic Materials Taiwan)

最佳矽晶圓獎(Silicon Wafers):上睦可(SUMCO Corporation)

最佳光阻獎項(Photoresists):東京應化工業(Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.)