台積公司成功使用浸潤式曝影機台產出經過功能驗證的90奈米晶片

台灣積體電路製造股份有限公司今(22)日表示，已經順利使用浸潤式曝影(immersion lithography)機台產出90奈米晶片，並且通過功能驗證，意謂著浸潤式曝影製程技術在不久之後即可邁入量產階段。台積公司係於今年十二月一日的日本半導體展(Japan Semicon)中，在Cymer公司舉辦的微影技術研討會上，以主題演講方式率先發表此項成果。

台積公司微製像技術發展處資深處長林本堅博士表示，「台積公司成功使用浸潤式曝影技術產出90奈米晶片，主要的製程步驟都在公司內部完成，唯有其中一層光罩的曝光、顯影曾送至荷蘭的ASML公司，借用其浸潤式曝影掃描原型機台進行作業。晶片在此一步驟中區分成兩組，分別以浸潤式及乾式曝影機台完成曝光和經過顯影後，再送回台積公司完成後續製程。」

這批90奈米晶片的功能驗證結果顯示：在良率、元件電性以及晶片缺陷密度方面，採用浸潤式及乾式曝影的兩組晶片都達到相似的水準。唯獨在聚焦深度(depth of focus)方面，採用浸潤式曝影的一組晶片幾乎比採用乾式曝影的好上一倍。

林本堅博士同時表示，「我們已經證實浸潤式曝影技術及機台有潛力被用來生產比90奈米更新世代的晶片，製程最佳化的努力仍需繼續。這當中最重要的發現是浸潤式曝影較乾式曝影具備更好的聚焦深度，可以得到較先前預期更好的曝光顯影良率，這一結果在65奈米製程上，可望有更顯著的效益。」

台積公司的第一部65奈米製程浸潤式微影機台，已於今年十一月起在晶圓十二廠裝設，目前仍在評估是否於65奈米製程即開始為客戶進行量產，至於45奈米製程則已確定採用此一嶄新技術。